奇码数字信息有限公司笔试题
10-15 23:38:17
来源:http://www.qz26.com 面试问题 阅读:8305次
导读:1.画出NMOS的特性曲线(指明饱和区,截至区,线性区,击穿区和C-V曲线)2.2.2um工艺下,Kn=3Kp,设计一个反相器,说出器件尺寸。3.说出制作N-well的工艺流程。4.雪崩击穿和齐纳击穿的机理和区别。5.用CMOS画一个D触发器(clk,d,q,q-)。
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1.画出NMOS的特性曲线(指明饱和区,截至区,线性区,击穿区和C-V曲线)
2.2.2um工艺下,Kn=3Kp,设计一个反相器,说出器件尺寸。
3.说出制作N-well的工艺流程。
4.雪崩击穿和齐纳击穿的机理和区别。
5.用CMOS画一个D触发器(clk,d,q,q-)。
1.画出NMOS的特性曲线(指明饱和区,截至区,线性区,击穿区和C-V曲线)
2.2.2um工艺下,Kn=3Kp,设计一个反相器,说出器件尺寸。
3.说出制作N-well的工艺流程。
4.雪崩击穿和齐纳击穿的机理和区别。
5.用CMOS画一个D触发器(clk,d,q,q-)。
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